HUATEC TG-100Eによって多層めっきを測定する方法

例:銅の、のニッケルから成り、鋼鉄基質でクロムめっきにする多層沈殿物の厚さの測定。構成の層の厚さはクロムの0.4μm、ニッケルの14μm、銅の10μmである。

1. 測定されるべき記事のめっきの表面の不動態化フィルムを拭くのにゴムを使用しなさい
2. 測定されるべき記事の表面のテスト頭部を縦に弱めなさい十分な圧力をまで漏出なしで適用した。
3. 電気分解の解決A2は電気分解の解決の2つのmlでtable2から点滴器の使用によって、細胞満ちていなければならない選ばれる。細胞は十分に満ちない。（解決のレベルは細胞の開始からの約3つのmmある）
4. 電気分解の細胞の底にピペットを挿入しなさい。繰り返しは細胞から気泡を取除くために数回を、クロムめっきにすることと完全に連絡することを可能にする電気分解の解決が吸う。

注:クロムめっきにすることを測定することはスターラーを置いて条件ではない時。

5. T及びCrの測定ボタン弱めなさい。
6. 適切な関係が行われたことを信号のプラグを電極のねじの穴に挿入しなさい、めっきされた目的に赤い信号クリップをおよび確かめるために付けなさい。
7. ブザー警報は回り、始める測定自動的に停止するが測定ボタンを、スターラー、0.4μmの厚さ表示された表示器、繰り返しの出版物に測定ボタン停止ボタンを押す前に1~2回およびぶんぶんうなること押しなさい。クロムめっきにすることの厚さを記録しなさい（測定の価値は最初にぶんぶんうなることから得られる価値に基づいている）。
8. 細胞の上がらないで台紙ピペットの使用によって使用された電気分解の解決をきれいにしなさい。細胞を消イオン水との細胞を電気分解の解決A5の2mlでの（表2、銅の基質のニッケル メッキのための電気分解の解決A5を参照しなさい）満たし、寄贈者の位置へスターラーを置く前に1~2回洗う。
9. ステップ7および記録をニッケル メッキの厚さ14μm同様に上で繰り返しなさい。

10. ステップ7、8を同様に上で繰り返し、銅めっきの10μmの厚さを記録しなさい。
11. ピペットの使用によって使用された電気分解の解決をきれいにしなさい。テスト頭部は上がる。記事を取除きなさい。
12. 洗浄の水および拭くことによって細胞およびガスケットの内部表面をきれいにしなさい。それらが取り替えられる前にそれらに酸化プロダクトがないことを確かめなさい。

電気分解の解決の公式そして準備方法

条件:電気分解の解決は化学薬品および蒸留水の分析的で純粋な等級からの準備を要求する。